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鋁酸鑭基片上沉積制備納尺度的銅薄膜，超微量天平精準測量沉積質量
來源：第十二屆全國物理力學學術會議論文 瀏覽 815 次 發(fā)布時間:2025-02-11
摘要：在稀薄氧壓下，用電子束蒸發(fā)的方法在鋁酸鑭（LaAlO3）基片上沉積制備納尺度的銅薄膜?；诔⒘刻炱綄Τ练e質量的精確測量，以及ICP-AES對薄膜中金屬元素的準確分析，研究了基片溫度和氧分壓對銅原子在鋁酸鑭基片表面吸附系數的影響。同時，用超微量天平精確測量沉積薄膜的總質量，并用ICP-AES分析薄膜中銅元素的質量，進而確定了納尺度銅薄膜的氧化程度，通過改變氧分壓和基片溫度，獲得了銅薄膜的氧化程度與氧分壓和基片溫度之間的關系。用XRD分析了薄膜結構，用SEM觀察了薄膜表面形貌，這些研究結果為三源共蒸發(fā)原位制備YBCO薄膜中基片溫度和氧分壓的選擇提供了依據。
圖1. 在CO2飽和的0.1 M KHCO3/H2O電解質中，（a）制備前銅薄膜和（b）陽極氧化銅薄膜在1700-2300 cm-1區(qū)域的原位SEIRAS光譜。0 V處的光譜用作背景。